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                  納米激光粒度儀技術全新升級

                  點擊次數:1670 更新時間:2017-04-17
                  納米激光粒度儀應用全新的光纖技術將背向光散射技術與傳統動態光散射技術進行了結合,突破性地推出了結合15°、90°與173°三個散射角度與硬件PALS(相位分析光散射)技術的Omni多角度粒與高靈敏度Zeta電位分析儀。
                   
                  隨著Omni的出現,突破了傳統單角度光散射儀測量的局限性,實現在同一臺粒度分析儀中,既可以同時兼顧大、小顆粒的散射光信號,又可以有效地提高了測量濃度上限,zui高可達40%wt;硬件PALS技術(與傳統基于頻移技術的光散射方法相比,靈敏度可提高1000倍)的應用,*解決了長期以來無法對諸如在低介電常數、高粘度、高鹽度以及等電點附近這些測量條件下(電泳遷移率比通常水相條件下低10-1000倍,傳統方法沒有足夠的分辨率進行測量)的樣品進行分析的難題。
                   
                  納米顆粒分析儀使用納米透視Nano-Insight 激光散射模塊,可以通過頂眼超顯微鏡觀測到液體中的納米粒子。采用不同激光散射顆粒在矩陣中表現為模糊點。模糊點根據其各自的布朗運動而移動。液體中有不同的布朗運動粒子。小粒子比大粒子受到相鄰粒子的影響更少。因此,在超顯微圖像中,較大的粒子有大的模糊外觀。 NTA能夠追蹤粒子的相應路徑。
                   
                  納米顆粒分析儀納米觀測模塊
                  納米觀測模塊的設計,可以使其安裝在超顯微鏡,頂眼納米的底板。可以通過Mishell軟件來控制該模塊。Mishell軟件控制著納米觀測模塊以及照相機。根據應用決定在納米觀測模塊裝備一個或多個激光器。激光器以一種特殊的方式排列。左側圖片上展示的是納米觀測圖。較小的粒子比較大的粒子移動更快。我們用攝像機同時跟蹤每個粒子。
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